0 Ставка
Мој налог
Телефон: (011) 7541-421, 3409-301, 3409-335, 6547-293, 3409-310
E-mail: Продаја стандарда: prodaja@iss.rs Семинари, обуке: iss-edukacija@iss.rs Информације о стандардима: infocentar@iss.rs
Стевана Бракуса 2, 11030 Београд
Главни мени

IEC 62047-16:2015 ED1

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films - Wafer curvature and cantilever beam deflection methods
5. 3. 2015.

Опште информације

60.60     5. 3. 2015.

IEC

TC 47/SC 47F

Међународни стандард

31.080.99  

енглески   француски  

Куповина

Објављен

Језик на коме желите да примите документ.

Апстракт

IEC 62047-16:2015 specifies the test methods to measure the residual stresses of films with thickness in the range of 0,01 μ to 10 μ in MEMS structures fabricated by wafer curvature or cantilever beam deflection methods.

Животни циклус

ТРЕНУТНО

ОБЈАВЉЕН
IEC 62047-16:2015 ED1
60.60 Стандард објављен
5. 3. 2015.