0 Ставка
Мој налог
Телефон: (011) 7541-421, 3409-301, 3409-335, 6547-293, 3409-310
E-mail: Продаја стандарда: prodaja@iss.rs Семинари, обуке: iss-edukacija@iss.rs Информације о стандардима: infocentar@iss.rs
Стевана Бракуса 2, 11030 Београд
Главни мени

ISO 17331:2004

Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
18. 5. 2004.

Опште информације

90.60     5. 3. 2025.

ISO

ISO/TC 201

Међународни стандард

71.040.40  

енглески  

Куповина

Објављен

Језик на коме желите да примите документ.

Апстракт

ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method.
It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.

Животни циклус

ТРЕНУТНО

ОБЈАВЉЕН
ISO 17331:2004
90.60 Завршетак поступка преиспитивања стандарда
5. 3. 2025.

ИСПРАВКЕ / ИЗМЕНЕ

ОБЈАВЉЕН
ISO 17331:2004/Amd 1:2010