0 Ставка
Мој налог
Телефон: (011) 7541-421, 3409-301, 3409-335, 6547-293, 3409-310
E-mail: Продаја стандарда: prodaja@iss.rs Семинари, обуке: iss-edukacija@iss.rs Информације о стандардима: infocentar@iss.rs
Стевана Бракуса 2, 11030 Београд
Главни мени

ISO 21466:2019

Microbeam analysis — Scanning electron microscopy — Method for evaluating critical dimensions by CD-SEM
13. 12. 2019.

Опште информације

90.93     17. 7. 2025.

ISO

ISO/TC 202/SC 4

Међународни стандард

37.020  

енглески  

Куповина

Објављен

Језик на коме желите да примите документ.

Апстракт

This document specifies the structure model with related parameters, file format and fitting procedure for characterizing critical dimension (CD) values for wafer and photomask by imaging with a critical dimension scanning electron microscope (CD-SEM) by the model-based library (MBL) method. The method is applicable to linewidth determination for specimen, such as, gate on wafer, photomask, single isolated or dense line feature pattern down to size of 10 nm.

Животни циклус

ТРЕНУТНО

ОБЈАВЉЕН
ISO 21466:2019
90.93 Одлука о потврђивању стандарда
17. 7. 2025.