0 Ставка
Мој налог
Телефон: (011) 7541-421, 3409-301, 3409-335, 6547-293, 3409-310
E-mail: Продаја стандарда: prodaja@iss.rs Семинари, обуке: iss-edukacija@iss.rs Информације о стандардима: infocentar@iss.rs
Стевана Бракуса 2, 11030 Београд
Главни мени

ISO 23812:2009

Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Method for depth calibration for silicon using multiple delta-layer reference materials
8. 4. 2009.

Опште информације

90.93     4. 8. 2025.

ISO

ISO/TC 201/SC 6

Међународни стандард

71.040.40  

енглески   француски  

Куповина

Објављен

Језик на коме желите да примите документ.

Апстракт

ISO 23812:2009 specifies a procedure for calibrating the depth scale in a shallow region, less than 50 nm deep, in SIMS depth profiling of silicon, using multiple delta-layer reference materials.
It is not applicable to the surface-transient region where the sputtering rate is not in the steady state.
It is applicable to single-crystalline silicon, polycrystalline silicon and amorphous silicon.

Животни циклус

ТРЕНУТНО

ОБЈАВЉЕН
ISO 23812:2009
90.93 Одлука о потврђивању стандарда
4. 8. 2025.