This document describes the chemical characteristics and related process specifications of the atomic layer deposition precursors, including assay content, metal purity, and anion content specification.
ПРОЈЕКАТ
ISO/FDIS 19383
50.20
Почетак поступка одобравања дефинитивног текста нацрта стандарда
11. 2. 2026.
Да бисте видели цео садржај, морате се регистровати или пријавити помоћу корисничког имена које већ имате.