This document describes the chemical characteristics and related process specifications of the atomic layer deposition precursors, including assay content, metal purity, and anion content specification.
PROJEKAT
ISO/FDIS 19383
50.20
Početak postupka odobravanja definitivnog teksta nacrta standarda
11. 2. 2026.
Da biste videli ceo sadržaj, morate se registrovati ili prijaviti pomoću korisničkog imena koje već imate.