Телефон: (011) 7541-421, 3409-301, 3409-335, 6547-293, 3409-310
E-mail: Продаја стандарда: prodaja@iss.rs Семинари, обуке: iss-edukacija@iss.rs Информације о стандардима: infocentar@iss.rs
Стевана Бракуса 2, 11030 Београд
Главни мени

delSRPS EN IEC 63275-1:2021

Полупроводнички уређаји - Метода испитивања поузданости дискретних метал-оксидних полупроводничких транзистора са ефектом силицијум карбида - Део 1: Метода испитивања за температурну нестабилност пристрасности

Semiconductor devices - Reliability test method for silicon carbide discrete metal-oxide semiconductor field effect transistors - Part 1: Test method for bias temperature instability

Опште информације

40.98     26. 5. 2021.

ISS

N022

Европски стандард

31.080.30  

енглески  

Апстракт

This part of IEC 63275-1 gives a test method to evaluate gate threshold voltage shift of silicon carbide (SiC) power metal-oxide-semiconductor field-effect transistors (MOSFETs) using room temperature readout after applying continuous positive gate-source voltage stress at elevated temperature. The proposed method accepts a certain amount of recovery by allowing large delay times between stress and measurement (up to 10h).

Животни циклус

ТРЕНУТНО

НАПУШТЕН
delSRPS EN IEC 63275-1:2021
40.98 Пројекат се брише из плана рада комисије за стандарде
26. 5. 2021.

Повезани пројекти

Идентичан са prEN IEC 63275-1:2021