0 Ставка
Мој налог
Телефон: (011) 7541-421, 3409-301, 3409-335, 6547-293, 3409-310
E-mail: Продаја стандарда: prodaja@iss.rs Семинари, обуке: iss-edukacija@iss.rs Информације о стандардима: infocentar@iss.rs
Стевана Бракуса 2, 11030 Београд
Главни мени

ISO 14706:2014

Surface chemical analysis — Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
25. 7. 2014.

Опште информације

90.20     15. 4. 2026.

ISO

ISO/TC 201

Међународни стандард

71.040.40  

енглески  

Куповина

Објављен

Језик на коме желите да примите документ.

Апстракт

ISO 14706:2014 specifies a TXRF method for the measurement of the atomic surface density of elemental contamination on chemomechanically polished or epitaxial silicon wafer surfaces. The method is applicable to the following: elements of atomic number from 16 (S) to 92 (U); contamination elements with atomic surface densities from 1 × 1010 atoms/cm2 to 1 × 1014 atoms/cm2; contamination elements with atomic surface densities from 5 × 108 atoms/cm2 to 5 × 1012 atoms/cm2 using a VPD (vapour-phase decomposition) specimen preparation method.

Животни циклус

ПРЕТХОДНО

ПОВУЧЕН
ISO 14706:2000

ТРЕНУТНО

ОБЈАВЉЕН
ISO 14706:2014
90.20 Почетак поступка преиспитивања стандарда
15. 4. 2026.

Преглед

Да бисте видели цео садржај, морате се регистровати или пријавити помоћу корисничког имена које већ имате.

Пријавите се