naSRPS EN IEC 63567-1:2026

Полупроводнички уређаји – Оцењивање перформанси компоненти опреме за обраду полупроводника и опреме за инспекцију – Део 1: Метода оцењивања пропустљивости EUV пеликле

Semiconductor devices - Performance evaluation of semiconductor processing components and inspection equipment - Part 1: Transmittance evaluation method of EUV pellicle

Апстракт

Овај део стандарда IEC 63567-1 прописује методу мерења пропустљивости пеликле (заштитне мембране) за екстремно ултраљубичасту литографију (EUVL) и даје смернице у погледу услова рада мерног уређаја за мерење пропустљивости при употреби EUV зрачења кратке таласне дужине, као и методе за израчунавање пропустљивости у EUV опсегу.
Овај документ се примењује на све типове мембрана постављених на предњу страну рефлективне маске (или рефлективног ретикла) које се користе у EUV литографији ради физичке заштите рефлективне маске од контаминационих честица насталих у комори током EUV експозиције.