naSRPS EN IEC 63567-1:2026

Poluprovodnički uređaji – Ocenjivanje performansi komponenti opreme za obradu poluprovodnika i opreme za inspekciju – Deo 1: Metoda ocenjivanja propustljivosti EUV pelikle

Semiconductor devices - Performance evaluation of semiconductor processing components and inspection equipment - Part 1: Transmittance evaluation method of EUV pellicle

Apstrakt

Ovaj deo standarda IEC 63567-1 propisuje metodu merenja propustljivosti pelikle (zaštitne membrane) za ekstremno ultraljubičastu litografiju (EUVL) i daje smernice u pogledu uslova rada mernog uređaja za merenje propustljivosti pri upotrebi EUV zračenja kratke talasne dužine, kao i metode za izračunavanje propustljivosti u EUV opsegu.
Ovaj dokument se primenjuje na sve tipove membrana postavljenih na prednju stranu reflektivne maske (ili reflektivnog retikla) koje se koriste u EUV litografiji radi fizičke zaštite reflektivne maske od kontaminacionih čestica nastalih u komori tokom EUV ekspozicije.