BEST FOCUS

Setting of focusing potentials resulting in maximum integrated area under the MTF curve for the given slitorientation.NOTE This setting of focusing potentials is chosen to reduce ambiguity and may slightly deviate from settings inpractical use of the XRII.

Postavka fokusirajućih potencijala koji nastaju na najviše integrisanoj površini ispod MTF krive za datu orijentaciju preseka.
NAPOMENA Ova postavka fokusirajućih potencijala koristi se za smanjivanje nejasnoće i može neznatno odstupati od podešavanja pri praktičnom korišćenju ELEKTROOPTIČKOG POJAČIVAČA SLIKE.

Postavka fokusirajućih potencijala koji nastaju na najviše integrisanoj površini ispod MTF krive za datu orijentaciju preseka.
NAPOMENA Ova postavka fokusirajućih potencijala koristi se za smanjivanje nejasnoće i može neznatno odstupati od podešavanja pri praktičnom korišćenju ELEKTROOPTIČKOG POJAČIVAČA SLIKE.